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Diversi metodi di rivestimento della macchina di rivestimento sottovuoto
Rivestimento sottovuoto la tecnologia, in poche parole, consiste nell'utilizzare l'evaporazione, lo sputtering, ecc. per emettere particelle di pellicola in un ambiente sottovuoto e depositarle su metalli, vetro, ceramica, semiconduttori, parti in plastica e altri oggetti per formare uno strato di rivestimento. I suoi metodi principali includono quanto segue:
Evaporazione sotto vuoto
Il principio è che in condizioni di vuoto, il materiale del film viene riscaldato da un evaporatore per vaporizzare o sublimare, e il flusso di particelle evaporate viene sparato direttamente al substrato e la tecnologia di depositare un film solido sul substrato.
Sputtering rivestimento
Il rivestimento sputtering è che in condizioni di vuoto, il catodo è collegato a un'alta tensione per stimolare una scarica a bagliore e gli ioni argon caricati positivamente colpiscono il bersaglio del catodo in modo che le particelle del materiale del film vengano espulse e depositate sul substrato per formare una pellicola strato.
Rivestimento ionico
Il rivestimento ionico di solito si riferisce a un metodo di rivestimento che genera un gran numero di ioni durante il processo di rivestimento. Durante la formazione del film, il substrato è sempre bombardato da particelle ad alta energia e lo strato di film ha una forza e una forza di legame molto elevate.
Rivestimento bobina sottovuoto
Il rivestimento in bobina sottovuoto è una tecnologia che utilizza vari metodi di rivestimento per rivestire continuamente la superficie di un rotolo di pellicola flessibile per ottenere alcune proprietà funzionali e decorative speciali del substrato flessibile.